國立中興大學科研產業化平台

上一頁
  • 專利名稱(中文) / 高分子薄膜、其製造方法及其應用之抗反射元件與感測元件
  • 專利名稱(英文) /
  • 所屬單位(一級單位) / 工學院
  • 所屬單位(二級單位) / 化學工程學系
  • 發明人(中文) / 楊宏達
  • 發明人(英文) /
  • 申請國家 / 中華民國
  • 專利類型 / 發明
  • 專利證書號 / I596144
  • 技術成熟度 / 實驗室階段

本發明提供一種高分子薄膜的製造方法,包含提供基材、提供懸浮液、形成膠體懸浮物、進行自組裝步驟、形成一高分子單體層、進行聚合反應以及進行蝕刻步驟。經由前述步驟可形成高分子材料層於基材的表面上,其中高分子材料層的表面包含複數個凹孔,藉此可降低寬廣波長範圍之入射光反射率,並提高入射光穿透率。


與我聯絡