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  • 專利名稱(中文) / 適用於近場的結構分析系統及方法
  • 專利名稱(英文) /
  • 所屬單位(一級單位) / 工學院
  • 所屬單位(二級單位) / 精密工程研究所
  • 發明人(中文) / 韓斌
  • 發明人(英文) /
  • 申請國家 / 中華民國
  • 專利類型 / 發明
  • 專利證書號 / I467164
  • 技術成熟度 / 實驗室階段

一種適用於近場的結構分析系統,包含一電磁波源、相關於一焦點平面及一反射係數函數的一反射鏡、一頻譜偵測器,及一處理模組。該電磁波源發射具有多個頻率成分的一電磁波到一待測物;該反射鏡反射從該電磁波源發射並通過該待測物且傳送到該反射鏡的電磁波,該反射係數函數的函數值相關於該電磁波的頻率;該頻譜偵測器在一觀察平面上的一位置偵測反射的電磁波之頻譜以產生一近場頻譜資料,其中,該觀察平面係位於該焦點平面的位置;該處理模組根據該反射係數函數的函數值及該近場頻譜資料,來計算與該待測物的結構相關的資訊。


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